이번에 공개된 개발자 한마디는 '탭비는 달리면서 5단계 집중, 낫비는 다음주에' 라는 짧은 내용으로 이비 개편 내용 중 일부를 담은 내용이다.
지난 3월부터 개발자 한마디를 통해 이비 개편이 4월에 진행될 것으로 알려졌으나, 자세한 내용은 알려진 바가 없었는데 이번 개발자 한마디 코너를 통해 개편 내용 중 일부를 밝힌 것이다.
이번 개발자 한마디에서 언급한 내용은 스태프 이비의 공격 스킬인 집중 마법의 특성과 연관이 있는 내용이다. 스태프 이비가 집중 마법을 사용하기 위해선 제자리에서 일정 시간 동안 집중 마법을 시전해야 하는데, 이때 이비의 마법 사거리 밖으로 보스가 도망치거나, 보스가 이비를 공격하려 하면, 집중 중인 마법을 캐스팅 세이브 스킬로 저장하고 생존기를 쓰거나 보스를 따라가야 했다.
그러다 보니 타이밍에 따라 자신에게 필요한 집중 마법을 사용할 수 없을 때도 있는데, 개발자 노트에서 언급한 대로 달리면서 집중 마법을 시전한다면, 집중 마법을 시전하면서 보스를 따라가 추격하여 마법을 사용할 수도 있고, 혹은 이동으로 보스 공격에서 도망치면서 집중 마법을 사용할 수 있게 된다.
자주 이동해야 하는 보스전이나 마법을 집중할 시간이 절대적으로 부족한 솔로 플레이에서도 보스 패턴에 따라 좀 더 집중 마법의 활용도가 높아질 수 있다.
이번 개발자 한마디를 본 유저들의 반응은 이동형 캐스팅이 어떻게 구현될 것인지, 5단계 집중의 캐스팅 시간이나 효율은 어떠할 것인가에 대해 논의를 하거나 조작이 더 복잡해지지 않았으면 좋겠다는 등의 반응이 있었다.
그 밖에도 스태프 이비의 생존기인 마나 앰버는 사용에 제약이 많아 생존기를 바탕으로 하는 적극적인 플레이를 하기 어렵다는 평가를 받기도 하는 만큼 생존기 개편을 궁금해하는 의견이 많았다.
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