시스템 개편에 따른 조정 사항
- 아처 클래스의 기술 적중률이 +22.5%의 수치를 갖도록 설정되었습니다.
※ 공통 사항 : 패시브 기술에 적중률 증가 효과를 보유한 클래스의 경우에는 위 수치에서 습득한 패시브 기술의 단계에 따라 적중률이 더해집니다.
- 빛의 소나기, 흑정령 : 광휘의 폭발 기술에서 소환되는 소환수 및 소환체의 적중률이 +32.5%로 변경되었습니다.
- 아처 캐릭터의 기본 피해 감소 능력이 증가하였습니다.
- 이에 따라, 변경된 시스템에서 캐릭터의 피해 감소 능력이 지나치지 않도록 일부 기술의 효과가 조정됩니다.
- 숨결 다스리기 기술의 감속 숨결 효과인 모든 방어력 증가 효과는 10초간 이동속도 증가 +10% 효과로 변경됩니다.
- 폭발하는 화살비, 흩뿌려지는 비호 기술의 마법 방어력 증가 효과는 적용되지 않도록 변경됩니다.
- 아처 클래스의 기술 적중률이 위와 같이 설정됨에 따라, 일부 기술의 회피율 감소 효과가 지나치지 않도록 효과가 조정됩니다.
- 실비아의 창 I~IV : 10초간 모든 회피율 3/3/6/9% 감소 → 10초간 모든 회피율 3% 감소
주무기
- 날카로운 비명 기술의 타격 성공 시 정신력 회복량이 정령의 화살의 회복량이 아닌 고정 회복량 +60 으로 변경되었습니다.
- 심판의 대지 기술 사용 시, 정신력을 소모하지 않도록 변경되었습니다.
개방
- 광휘의 폭발 IV 기술의 PvP 피해 감소율이 70.1% → 65%로 변경되었습니다.
- 이에 따라, 광휘의 폭발 IV 기술을 습득했을 때 흐름 : 빛의 인도 기술의 PvP 피해량도 함께 변경됩니다.
- 실비아의 창 I ~ IV 기술의 PvP 피해 감소율이 45/45/56.9/56.9% → 55/55/69/69%로 변경되었습니다.
- 루트라곤의 부름 III ~ IV 기술의 PvP 피해 감소율이 69% → 67%로 변경되었습니다.
- 이에 따라 흐름 : 부름의 메아리 기술의 PvP 피해량도 변경됩니다.
- 빛을 가르는 유성 I ~ III 기술의 PvP 피해 감소율이 30% → 10%로 변경되었습니다.
- 그늘에 감기는 광휘 기술의 PvP 피해 감소율이 35% → 50%로 변경되었습니다.
- 낙인의 살 기술의 PvP 피해 감소율이 53% → 68%로 변경되었습니다.
- 재사용 대기 시간 중 사용하는 만개하는 살 I~III 기술의 효과 중, 근거리 타격의 피해량이 감소되었습니다.
- 재사용 대기 시간 중 사용하는 흐름 : 광원의 살 기술의 피해량이 감소되었습니다.
개인적으로 쿨 중 만개/광원을 사용하지는 않지만, 연구소에 없던 만개, 광원도 추가로 너프 되었네요.