중국이 미·네덜란드의 수출 규제로 EUV 확보가 막힌 가운데, 자체 개발한 이머전 DUV 노광장비 생산에 돌입했다.
상하이의 정부 지원 업체가 올해 5대, 내년 20대 생산을 목표로 관련 인력을 영입해 생산 체계를 구축한 것으로 알려졌다.
해당 장비는 SMIC, 화훙반도체, 창신메모리 등 미국 규제 대상인 중국 핵심 반도체 기업에 우선 공급될 예정이다.
이는 미국의 첨단 장비 수출 통제가 오히려 중국의 반도체 장비 국산화 속도를 앞당긴 대표적인 사례로 평가된다.
이머전 DUV는 초순수를 활용해 해상도를 높인 기술로, 다중 노광 적용 시 7나노급 공정을 구현할 수 있다.
다만 다중 노광은 오차 증가와 수율 저하를 유발하여 생산성과 경제성 측면에서 여전히 EUV에 크게 뒤진다.
중국의 자체 장비도 핵심 부품 일부를 일본에 의존하며, 협력업체 지연 등으로 양산까지는 난관이 예상된다.
노광장비 제작과 실제 생산라인에서 안정적인 수율을 확보하는 것은 전혀 다른 문제로, 긴 검증 기간이 필요하다.
그럼에도 R&D 단계를 넘어 실제 생산에 들어간 것은 중국의 '자급형 반도체 생태계' 구축이 가시화된 상징적 사건이다.
이번 소식에 전 세계 노광장비 독점기업인 ASML의 주가는 7% 이상 급락하는 등 글로벌 장비 업계에 큰 충격을 줬다.