패시브 증폭장치
라티스가 자신의 주의에 증폭장치를 30 - 13초마다 하나씩 설치합니다. 라티스가 증폭장치의 범위 내에 접근하면 공격력이 35% - 50% 증가합니다. 증폭장치의 범위 내에서 적을 세 번 공격하면 대상이 3초간 70% 둔화됩니다.


Q. 자기장 창
라티스가 강력한 자기장을 내뿜는 창을 던져
75/85/95/110/130 (+0.75 ad) 의 피해를 입힙니다.
창이 증폭장치에 맞을 경우 라티스가 증폭장치쪽으로 이동하며
이동하는 도중 적 챔피언과 충돌하면 대상도 함께 끌려갑니다.



W. 공중분해
대상을 공중에 띄우고 대상에게 돌진하여 30/50/80/100/120 (+0.5ad)의 피해를 입힙니다.
이 스킬로 대상을 처치할시 재사용 대기시간이 초기화 됩니다.
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E. 차원이동
범위 내의 증폭 장치를 하나 지정해 그곳으로 이동합니다.
이동 후 라티스는 50% / 45% / 40% / 35% / 30% 둔화
되지만 공격력 증폭 효과는 1.75배가 됩니다.



R. 차원 증폭 추격
전방으로 먼 거리까지 날아가는 추적탄을 쏩니다.
추적탄에 명중한 적은 위치가 들어나며 100 / 120 / 130의
고정 피해를 입습니다. 스킬을 한 번 더 사용할시 라티스가
추적당한 적 챔피언에게 돌진하며 돌진을 마친 후 맵상에
있는 모든 증폭 장치를 자신의 쪽으로 옮깁니다.
증폭장치는 적을 3번 공격해서 둔화효과를 적용시키거나
자연적으로 4초가 지나면 폭발하고 폭발로 피해를 입은
모든 적 챔피언에게 300 / 350 / 500 (+1.0 ad)의 물리피해를 입힙니다.